核心提示：种类 化合物半导体...
功能
半导体工艺中使用于CMP工艺的Slurry药液供给装置，根据各工艺的特点按一定的比例Slurry源液和DIW 或添加剂混合或稀释后控制稳定的压力和流量，供给CMP Main设备。
特点
- 用国内外积累的丰富经验适合各种特性的完备而多样化的SDS设计理念。
- 为了防止Micro Scratch 抑制发生Slurry 巨大粒子的多样化 Solution 提供。
- 高比率稳定的 Mixing Solution 。
- 变动的供给压力和流量连续的控制使稳定化。
- 有可靠性和稳定性的控制系统。
- 提供System Auto Cleaning 。
- 容易的操作和便利的维修管理。
- 对顾客提供迅速，彻底的维修服务。
- 为了构建社内管理网提供多样的Data Bases 。
适应工艺
- Oxide, Tungsten, STI, Poly, Copper, Etc..
适应 System Model
- P-Type(Pump), N-Type(N2), NP-Type(N2+Pump),
NV-Type(N2+Vacuum)